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集成電路用12英寸高純鈷靶材

文章來源(yuan)：中(zhong)國(guo)有研科技集團有限公(gong)司　　發(fa)布時間：2024-05-20

241. 集成電路用12英寸高純鈷靶材

【所屬領域】關鍵材料

【中央企業名稱】中國(guo)有研科技集團有限公司

【成果簡介】12英寸高純鈷靶材是超大規模集成電路邏輯芯片和DRAM存儲芯片制備用關鍵材料之一。其主要用于130nm及以下集成電路技術接觸層，可降低器件阻抗與功耗，提升驅動電流、頻率響應和操作速度。同時，在1xnm以下先進制程中，高純鈷替換鎢接觸孔和銅互連線，可使芯片導電性能提高3.7倍。

12英寸鈷靶材對于純度、微觀組織、磁性能、焊接性能等方要求及其嚴格，國際上真正掌握技術并量產的僅有日本一家公司。有研億金通過自主創新，全面突破高純鈷原材料制備到高性能靶材制備的核心技術，性能全面滿足客戶需求，通過全球最領先的集成電路制造企業的驗證考核，供應國內外知名集成電路企業，已經形成具有自主知識產權的制造技術及批量供應能力。技術成熟度達到9級。

【主要指標】

1. 純度：5N

2. 氧含量：≤100ppm

3. 透磁率：≥70%

4. 焊合率：≥99%

【應用推廣需求】

1. 應用推廣方式：銷售

2. 應用推廣領域：集成電路行業邏輯芯片制造企業，存儲芯片制造企業

【成果圖片】