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集成電路制造BCD工藝

文章來源(yuan):中國電子信息產業集(ji)團有限(xian)公司(si)  發布時間:2022-05-20

102.集成電路制造BCD工藝

【所屬領域】先進工藝

【中央企業名稱】中國電子

【技術產品簡介】近年來,隨著全球能源需求的不斷增長以及環境保護意識的逐步提升,高效、節能產品成為市場發展的新趨勢,電源管理芯片越來越多地應用到整機產品中,高集成度的BCD工藝作為集成電源的最好工藝解決方案,也得到各芯片制造企業的高度重視。

BCD工藝已經是一個概念很廣的技術,在真正的應用中,往往可以是單一的器件,也可是幾種的組合,這完全取決于市場的需求和系統方案的要求。但最主要的市場在功率驅動(包括音頻功放,LCD/LED的驅動,柵極驅動等),接口和電源管理(主要應用是手機、數碼相機、臺式/便攜式計算機等各種電子產品)。

【產品圖片】

 

圖1芯片結構示意圖

 

圖2芯片外觀圖

圖3 應用場景圖

【與國外同類技術產品對比情況】

技術對比情況:存在差距

價格對比情況:低于

國外技術產品廠家及名稱:MPS公司的電源管理芯片

【技術指標】

1.16V NLDMOS BVDS—16V NLDMOS Vg=0V時drain to source擊穿電壓:27V

2.16V NLDMOS Rsp—16V NLDMOS Vg=5V,Vd=0.1V時drain to source每平方毫米導通電阻:10mΩ/mm2

3.20V NLDMOS BVDS—20V NLDMOS Vg=0V時drain to source擊穿電壓:32V

4.20V NLDMOS Rsp—20V NLDMOS Vg=5V,Vd=0.1V時drain to source每平方毫米導通電阻:12mΩ/mm2

5.24V NLDMOS BVDS—24V NLDMOS Vg=0V時drain to source擊穿電壓:35V

6.24V NLDMOS Rsp—24V NLDMOS Vg=5V,Vd=0.1V時drain to source每平方毫米導通電阻:14mΩ/mm2

7.30V NLDMOS BVDS—30V NLDMOS Vg=0V時drain to source擊穿電壓:39V

8.30V NLDMOS Rsp—30V NLDMOS Vg=5V,Vd=0.1V時drain to source每平方毫米導通電阻:16mΩ/mm2

【責任編輯:王占(zhan)朝】

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