文章來源：中國兵器裝備集團公司 發布時間：2009-11-07
近日，中(zhong)國(guo)(guo)兵器(qi)裝備(bei)集團公(gong)司成功(gong)研(yan)制出國(guo)(guo)內(nei)首套(tao)磁(ci)(ci)控(kong)濺(jian)射(she)鍍(du)(du)膜(mo)機(ji)(ji)(ji)，填(tian)補了該項目國(guo)(guo)內(nei)空(kong)白(bai)，實現了高(gao)精度(du)濺(jian)射(she)鍍(du)(du)膜(mo)機(ji)(ji)(ji)的(de)(de)(de)國(guo)(guo)產(chan)化，滿足(zu)我國(guo)(guo)當前大批量(liang)、穩定(ding)鍍(du)(du)制多種高(gao)品質精密光(guang)學薄膜(mo)的(de)(de)(de)需求，為(wei)(wei)我國(guo)(guo)今后一(yi)(yi)(yi)(yi)(yi)段時期的(de)(de)(de)鍍(du)(du)膜(mo)機(ji)(ji)(ji)研(yan)發(fa)提(ti)供了方向。該機(ji)(ji)(ji)型(xing)由集團公(gong)司自(zi)主研(yan)制生產(chan)，具(ju)有完全自(zi)主知識(shi)產(chan)權，其(qi)技術(shu)水(shui)平(ping)處于國(guo)(guo)內(nei)領先，創造了國(guo)(guo)內(nei)鍍(du)(du)膜(mo)機(ji)(ji)(ji)研(yan)制的(de)(de)(de)4個第(di)一(yi)(yi)(yi)(yi)(yi)次(ci)(ci)：第(di)一(yi)(yi)(yi)(yi)(yi)次(ci)(ci)采用(yong)磁(ci)(ci)控(kong)濺(jian)射(she)和(he)電子(zi)蒸鍍(du)(du)兩(liang)套(tao)鍍(du)(du)膜(mo)系統，將蒸鍍(du)(du)技術(shu)與濺(jian)射(she)技術(shu)在(zai)一(yi)(yi)(yi)(yi)(yi)臺(tai)機(ji)(ji)(ji)器(qi)上實現成功(gong)覆蓋(gai)，在(zai)國(guo)(guo)內(nei)首次(ci)(ci)具(ju)備(bei)了蒸鍍(du)(du)和(he)濺(jian)射(she)兩(liang)種功(gong)能(neng)為(wei)(wei)一(yi)(yi)(yi)(yi)(yi)體的(de)(de)(de)兩(liang)用(yong)機(ji)(ji)(ji)型(xing)，減少了設(she)備(bei)的(de)(de)(de)采購成本(ben)和(he)能(neng)源消(xiao)耗(hao)；第(di)一(yi)(yi)(yi)(yi)(yi)次(ci)(ci)在(zai)真(zhen)空(kong)室的(de)(de)(de)設(she)計上采用(yong)雙真(zhen)空(kong)室，有利(li)于提(ti)高(gao)工作效率、保(bao)護靶材和(he)節能(neng)降耗(hao)；第(di)一(yi)(yi)(yi)(yi)(yi)次(ci)(ci)運(yun)用(yong)了分子(zi)泵技術(shu)，使極限真(zhen)空(kong)實現一(yi)(yi)(yi)(yi)(yi)次(ci)(ci)性達標；在(zai)控(kong)制部分第(di)一(yi)(yi)(yi)(yi)(yi)次(ci)(ci)采用(yong)工控(kong)機(ji)(ji)(ji)控(kong)制，提(ti)高(gao)了設(she)備(bei)的(de)(de)(de)自(zi)動化程度(du)，避免(mian)了人為(wei)(wei)因素造成的(de)(de)(de)失(shi)誤。