文章來源:中國兵(bing)器(qi)裝備集(ji)團公司(si) 發布時(shi)間:2009-11-07
近日,中(zhong)國(guo)(guo)兵器(qi)裝備(bei)集團公司(si)成(cheng)(cheng)功(gong)研(yan)制出國(guo)(guo)內(nei)首套磁控濺射(she)(she)(she)鍍(du)膜(mo)機(ji)(ji)(ji),填補了(le)該項目(mu)國(guo)(guo)內(nei)空(kong)白(bai),實(shi)(shi)現(xian)了(le)高精度(du)濺射(she)(she)(she)鍍(du)膜(mo)機(ji)(ji)(ji)的(de)國(guo)(guo)產(chan)化(hua),滿足我(wo)國(guo)(guo)當前(qian)大批量、穩定鍍(du)制多種(zhong)高品質(zhi)精密(mi)光學(xue)薄膜(mo)的(de)需求,為(wei)(wei)我(wo)國(guo)(guo)今后(hou)一(yi)(yi)段時期的(de)鍍(du)膜(mo)機(ji)(ji)(ji)研(yan)發(fa)提供了(le)方向。該機(ji)(ji)(ji)型由集團公司(si)自(zi)主研(yan)制生產(chan),具(ju)有完(wan)全自(zi)主知識(shi)產(chan)權,其技(ji)(ji)術(shu)(shu)水平處(chu)于國(guo)(guo)內(nei)領先(xian),創造了(le)國(guo)(guo)內(nei)鍍(du)膜(mo)機(ji)(ji)(ji)研(yan)制的(de)4個第(di)(di)一(yi)(yi)次(ci):第(di)(di)一(yi)(yi)次(ci)采用(yong)(yong)磁控濺射(she)(she)(she)和電子(zi)蒸鍍(du)兩(liang)套鍍(du)膜(mo)系統,將蒸鍍(du)技(ji)(ji)術(shu)(shu)與濺射(she)(she)(she)技(ji)(ji)術(shu)(shu)在(zai)一(yi)(yi)臺機(ji)(ji)(ji)器(qi)上實(shi)(shi)現(xian)成(cheng)(cheng)功(gong)覆蓋(gai),在(zai)國(guo)(guo)內(nei)首次(ci)具(ju)備(bei)了(le)蒸鍍(du)和濺射(she)(she)(she)兩(liang)種(zhong)功(gong)能為(wei)(wei)一(yi)(yi)體(ti)的(de)兩(liang)用(yong)(yong)機(ji)(ji)(ji)型,減少了(le)設備(bei)的(de)采購成(cheng)(cheng)本和能源消耗(hao);第(di)(di)一(yi)(yi)次(ci)在(zai)真(zhen)空(kong)室(shi)的(de)設計上采用(yong)(yong)雙真(zhen)空(kong)室(shi),有利于提高工(gong)作效(xiao)率、保護靶材和節能降耗(hao);第(di)(di)一(yi)(yi)次(ci)運用(yong)(yong)了(le)分子(zi)泵技(ji)(ji)術(shu)(shu),使極(ji)限(xian)真(zhen)空(kong)實(shi)(shi)現(xian)一(yi)(yi)次(ci)性達(da)標(biao);在(zai)控制部分第(di)(di)一(yi)(yi)次(ci)采用(yong)(yong)工(gong)控機(ji)(ji)(ji)控制,提高了(le)設備(bei)的(de)自(zi)動化(hua)程度(du),避免(mian)了(le)人(ren)為(wei)(wei)因素造成(cheng)(cheng)的(de)失誤。